電子/半導體
low-k 低介電值。

所謂low-k(低介電值)就是尋找介電常數較小的材料,以降低導線間電流的互相干擾作用,進而提升IC內導線的傳輸功能。

由於電路信號傳遞的快慢是決定在電阻(R)與電容(C)乘積,RC乘積值越小,速度就越快。因此,降低電容值亦可改善傳輸速度。而電容值則與IC上金屬線間絕緣介電材料的介電係數K相關,K越小,電容值越小。

一直作為金屬導線間絕緣材料的化二氧化矽(SiO2),介電係數約為3.9~4.5間,然當製程不斷推進,二氧化矽己逐漸接近應用上的極限。








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