電子/半導體
曝光 exposure。
指將塗敷在晶圓上之抗蝕劑,形成電路圖案之過程。通常針對上一製程所形成之電路圖案加以對準位置,形成次一製程之電路圖案。由於曝光通常都在柔和之黃光氣氛環境下進行,因此也將此製程俗稱為黃光製程。







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